Производство гибридных микросборок НЧ, ВЧ и СВЧ-диапазона

Главная / Производства /
Производство гибридных микросборок НЧ, ВЧ и СВЧ-диапазона

Продукция

Микрополосковые платы (резистивные, коммутационные)
Дискретные пассивные элементы
Катушки индуктивности
Платы на диэлектрике ФЛАН с покрытием сплавом олово-висмут
Пластины из медной фольги, с покрытием золотом или сплавом олово-висмут
Прокладки из поликора
Микросборки корпусные и бескорпусные НЧ, ВЧ и СВЧ-диапазона
Узлы электронные полупроводниковые, транзисторы на основе кристаллов с золотыми выводами
Фотошаблоны металлизированные (железоокисные, хромовые, эмульсионные)

Конструкционные характеристики

На подложках из поликора, ситалла, феррита, титаната бария, керамика В-20, В-40, В-80, ТЛ-0, ТЛ-75, ТЛ-100
- габариты плат от 1,5х1,5 мм до 60х48 мм, толщиной 0,25 мм, 0,5 мм, 1,0 мм
- отверстия и пазы различной формы, переходные металлизированные отверстия; трех-, четырех- и пятисторонняя металлизация
- тонкопленочные резисторы на основе хрома, сплавов РС-3710, РС-5000, РС-5402, РС-5406К, К-50С, удельное сопротивление резистивного слоя от 1 до 10000 Ом/кв
- проводники толщиной до 24 мкм, минимальной шириной пленочного элемента 20 мкм, точность изготовления ±5 мкм
- защитное покрытие золотом до 6 мкм и сплавом олово-висмут до 12 мкм
Толщина медной фольги от 0,01—0,02 мм
Катушки индуктивности на поликоре, сопротивление от 4 Ом до 500 Ом с точностью от 2% , cуммарная емкость 5 и 10 Пф, размеры элементов от 10 мкм
Микросборки на поликоре, ситалле, керамике
- габариты от 2х5 мм до 60х48 мм и более
- частота до 35 ГГц
- корпусные микросборки натекание не более 5х10^-4л.мкм.рт.ст./с
Элементы фотошаблона от 2 мкм

Технологии

Вакуумное напыление резистивных и проводящих слоев с последующей фотолитографией, гальваническое покрытие лицевой и обратной стороны, нанесение на схему защитного и маркировочного слоев центрифугированием
Прецизионная лазерная обработка поликора, диэлектрика RT/Duroid фирмы Rogers
Все виды микросварки золотой проволокой диаметром от 15 мкм на контактные площадки размером от 30х30 мкм
Эвтектическая пайка кристаллов
Герметизация методом заливки или лазерной сваркой
Разварка золотой и алюминиевой проволокой диаметром 25 мкм, 50 мкм шарик-клин/клин-клин на контактные площадки размером от 50х50 мкм